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Couches minces fonctionnelles produites par des techniques de plasma
Tallenna

Couches minces fonctionnelles produites par des techniques de plasma

pokkari, 2024
Ranska
Les applications technologiques actuelles des mat riaux sont vastes, en particulier les m taux recouverts de films de nitrure. Ces derni res ann es, de nombreuses recherches ont t men es dans le but d'optimiser l'adh rence de ces films sur des substrats en acier afin d' largir leur champ d'application. Les films de nitrure compos s de cations m talliques, en particulier de titane, de zirconium, de chrome et d'aluminium, se sont r v l s tr s int ressants dans les applications o la duret de la surface, la r sistance la corrosion et la r sistance au cisaillement sont requises. Cependant, l'adh sion de ces films a t la principale limitation pour les applications tribologiques qui n cessitent un grand effort m canique de surface. Ce travail propose l' tude de techniques de dilution de l'interface film/substrat par: i) diffusion ou interdiffusion activ e thermiquement et ii) variation progressive de la composition chimique de l'interface film/substrat (films fonctionnels). Les films et interfaces form s entre des films TiN et AlN et des substrats en acier AISI M2 et AISI D6 ont t tudi s.
ISBN
9786207619719
Kieli
Ranska
Paino
177 grammaa
Julkaisupäivä
4.6.2024
Sivumäärä
112