Ossido di nichel

Il capitolo 3 illustra la metodologia impiegata per sintetizzare elettrodi a film sottile di ossido di nichel attraverso una via acquosa, con particolare attenzione alla manipolazione dei parametri preparativi, tra cui ingredienti, concentrazioni, temperature di decomposizione e volumi di soluzione. L'analisi termogravimetrica iniziale del nitrato di nichel esaidrato ha indicato la formazione di residui stabili oltre i 573 K. Gli esperimenti successivi sono stati condotti variando le concentrazioni della soluzione di spruzzatura da 0,2 M a 1,0 M, mantenendo la temperatura di deposizione e la velocit di spruzzatura costanti rispettivamente a 623 K e 2 ml/min. L'ottimizzazione successiva stata ottenuta esplorando varie temperature di decomposizione (da 623 K a 723 K) mantenendo una velocit di spruzzatura costante di circa 2 ml/min, utilizzando la concentrazione ottimale precedentemente identificata (0,8 M).Le condizioni ottimizzate (0,8 M e 673 K) sono state successivamente applicate alle deposizioni di film, con il volume della soluzione come parametro variabile, che variava da 30 a 110 ml. L'analisi elettrochimica dell'elettrodo AV-1 ottimizzato stata effettuata utilizzando diversi elettroliti: KCl, LiCl2, Na2SO4, NaOH e KOH.