Gå direkte til innholdet
High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects
Spar

High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects

Forfatter:
pocket, 2025
Engelsk
Undertittel
0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python
Forfatter
H Wu
ISBN
9798279044078
Språk
Engelsk
Vekt
794 gram
Utgivelsesdato
19.12.2025
Antall sider
342