Contrôle du plasma électronique par nanostructuration métallique

Cet ouvrage d crit les recherches men es sur le contr le du plasma lectronique par nanostructuration m tallique, qui permet son tour de contr ler efficacement les plasmons de surface (SP). Ces SP sont des ondes qui se propagent l'interface entre un m tal noble et un di lectrique, dont la fr quence d pend de la fr quence du plasma lectronique massif du m tal. Le couplage efficace des SP avec les photons dans le di lectrique permet une localisation du champ une chelle inf rieure la longueur d'onde, et ces sources de lumi re l' chelle nanom trique sont n cessaires dans les syst mes d'enregistrement magn tique assist par chaleur (HAMR). La structuration des m taux (r seau de diffraction rectangulaire 1D) l' chelle nanom trique permet de coupler les photons ces SP. En outre, il est particuli rement int ressant d'utiliser un substrat indice de r fraction lev , par exemple le phosphure de gallium (GaP), qui est un mat riau photoluminescent utilis pour compenser les pertes ohmiques sur un film d'or de 50 nm d pos sur du GaP. Le GaP est galement utilis pour muler un laser cavit verticale mission par la surface (VCSEL) afin de fournir une alternative moins co teuse la source lumineuse utilis e dans la technologie HAMR.