Siirry suoraan sisältöön
Vakuumbeschichtung
Tallenna

Vakuumbeschichtung

Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerstaubung, teilchengestutzte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).
Alaotsikko
Verfahren und Anlagen
Painos
Softcover reprint of the original 1st ed. 1995
ISBN
9783642633980
Kieli
saksa
Paino
310 grammaa
Julkaisupäivä
14.10.2012
Sivumäärä
481