Tallenna
Spacer Engineered FinFET Architectures
Lue Adobe DRM-yhteensopivassa e-kirjojen lukuohjelmassaTämä e-kirja on kopiosuojattu Adobe DRM:llä, mikä vaikuttaa siihen, millä alustalla voit lukea kirjaa. Lue lisää
This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device-circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
- Alaotsikko
- High-Performance Digital Circuit Applications
- Kirjailija
- Sudeb Dasgupta, Brajesh Kumar Kaushik, Pankaj Kumar Pal
- ISBN
- 9781351751049
- Kieli
- englanti
- Julkaisupäivä
- 26.6.2017
- Kustantaja
- CRC PRESS
- Formaatti
- PDF - Adobe DRM
- Lue e-kirjoja täällä
- Lue e-kirja mobiililaitteella/tabletilla
- Lukulaite
- Tietokone
