Siirry suoraan sisältöön
Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films
Tallenna

Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films

Kirjailija:
pokkari, 2014
englanti
Kirjailija
ISBN
9783659208232
Kieli
englanti
Paino
272 grammaa
Julkaisupäivä
17.3.2014
Sivumäärä
180