
High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects
- Alaotsikko
- 0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python
- Kirjailija
- H Wu
- ISBN
- 9798279044078
- Kieli
- englanti
- Paino
- 794 grammaa
- Julkaisupäivä
- 19.12.2025
- Kustantaja
- Independently Published
- Sivumäärä
- 342