Siirry suoraan sisältöön
High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects
Tallenna

High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects

Kirjailija:
pokkari, 2025
englanti
Alaotsikko
0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python
Kirjailija
H Wu
ISBN
9798279044078
Kieli
englanti
Paino
794 grammaa
Julkaisupäivä
19.12.2025
Sivumäärä
342