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Controlo do plasma de elétrons por nanoestruturação metálica
Tallenna

Controlo do plasma de elétrons por nanoestruturação metálica

Kirjailija:
pokkari, 2025
portugali
Este livro descreve a pesquisa sobre o controlo do plasma de el trons por nanoestrutura o met lica, que, por sua vez, proporciona o controlo eficiente dos plasm es de superf cie (SPs). Esses SPs s o ondas que se propagam na interface entre metais nobres e diel tricos, cuja frequ ncia depende da frequ ncia do plasma de el trons do metal. O acoplamento eficiente dos SPs com f tons no diel trico proporciona a localiza o do campo em escala sub-comprimento de onda, e essas fontes de luz em nanoescala s o necess rias nos sistemas de grava o magn tica assistida por calor (HAMR). A estrutura o de metais (grade de difra o retangular 1-D) em escala nanom trica permite acoplar f tons a esses SPs. Al m disso, particularmente interessante aqui o uso de substratos de alto ndice de refra o, por exemplo, fosfeto de g lio (GaP), que fotoluminescente usado para compensa o de perda hmica em filme de ouro de 50 nm depositado em GaP. O GaP tamb m usado para emular o laser de emiss o de superf cie de cavidade vertical (VCSEL), a fim de fornecer uma alternativa mais barata fonte de luz usada na tecnologia HAMR.
Kirjailija
Tahir Iqbal
ISBN
9786209305238
Kieli
portugali
Paino
86 grammaa
Julkaisupäivä
7.12.2025
Sivumäärä
56