Siirry suoraan sisältöön
CMOS Plasma and Process Damage
Tallenna

CMOS Plasma and Process Damage

Kirjailija:
sidottu, 2025
englanti
Readers will learn how plasma and process damage results from the high-energy processes that are used in chip manufacturing, causing harm to the chips, functional failure and reliability problems.
Kirjailija
Kirk Prall
ISBN
9783031890284
Kieli
englanti
Paino
446 grammaa
Julkaisupäivä
17.5.2025
Sivumäärä
466