Siirry suoraan sisältöön
Chemical Mechanical Polishing Optimization for 4H-Sic
Tallenna

Chemical Mechanical Polishing Optimization for 4H-Sic

Kirjailija:
pokkari, 2012
englanti
Kirjailija
Craig L Neslen
ISBN
9781288282593
Kieli
englanti
Paino
213 grammaa
Julkaisupäivä
12.11.2012
Kustantaja
Biblioscholar
Sivumäärä
110