Lavorazione di film PZT

Negli ultimi quarant'anni, lo sviluppo dell'industria microelettronica ha fatto tendenza alla produzione di materiali ultrasottili (con microstruttura nanometrica) e ultrapuri (senza impurit o difetti) che garantiscono un aumento dell'efficienza funzionale delle loro parti con il minor volume possibile. L'obiettivo generale di questo lavoro stato quello di sintetizzare (deposizione e ricottura) film ferroelettrici di titanato di piombo (PT) depositati su substrato Pt/Ti/SiO2/Si . Il metodo utilizzato stato il CVD-AA a causa di quanto detto sopra. In generale, in questo tipo di film, la ricottura una fase necessaria per ottenere la fase perovskita (ferroelettrica) desiderata. Il lavoro comprende le rispettive analisi termo-gravimetriche e la caratterizzazione cristallografica e microstrutturale. Tra i risultati ottenuti possiamo citare che i film hanno presentato una buona omogeneit chimica e strutturale a livello micrometrico, le fasi presenti nei film corrispondevano a quelle desiderate, dove sono stati osservati i domini ferroelettrici.