Fabrication lithographique de nanostructures de Fe et Co

L'industrie des semi-conducteurs est la fois le moteur et le b n ficiaire du d veloppement des nanotechnologies. Comme le pr voit la loi de Moore, le nombre de nanocomposants individuels tels que les transistors sur une puce continue d'augmenter, ce qui accro t la densit des entit s fonctionnelles et am liore ainsi la puissance de calcul. Une m thode puissante pour la fabrication contr l e l' chelle nanom trique est le traitement induit par faisceau d' lectrons focalis (FEBIP). Dans cette m thode, un faisceau d' lectrons focalis est utilis pour modifier localement les propri t s d'un substrat, ce qui permet de fabriquer des nanostructures de forme arbitraire et de composition chimique contr l e. La technique FEBIP la plus fr quemment appliqu e et la plus importante est le d p t induit par faisceau d' lectrons (EBID), dans lequel certaines mol cules pr curseurs sont localement dissoci es par l'impact du faisceau d' lectrons, ce qui entra ne le d p t de fragments non volatils des pr curseurs. Dans cet ouvrage, des recherches ont t men es sur la fabrication et l'application de la nanostructure par EBID.