Über die lithografische Herstellung von Fe- und Co-Nanostrukturen

Die Halbleiterindustrie treibt die Entwicklung der Nanotechnologie voran und profitiert auch in hohem Ma e davon. Wie durch das Mooresche Gesetz vorhergesagt, steigt die Zahl der einzelnen Nanokomponenten wie Transistoren auf einem Chip weiter an, wodurch die Dichte der funktionellen Einheiten erh ht und somit die Rechenleistung verbessert wird. Eine leistungsf hige Methode f r die kontrollierte Herstellung im Nanometerbereich ist die fokussierte elektronenstrahlinduzierte Verarbeitung (FEBIP). Dabei wird ein fokussierter Elektronenstrahl verwendet, um die Eigenschaften eines Substrats lokal zu ver ndern, was die Herstellung von Nanostrukturen mit beliebiger Form und kontrollierter chemischer Zusammensetzung erm glicht. Die am h ufigsten angewandte und bekannteste FEBIP-Technik ist die elektronenstrahlinduzierte Abscheidung (electron beam induced deposition, EBID), bei der bestimmte Vorl ufermolek le durch den Aufprall des Elektronenstrahls lokal dissoziiert werden, was zur Abscheidung der nicht fl chtigen Fragmente der Vorl ufer f hrt. In diesem Buch wurden Untersuchungen zur Herstellung und Anwendung von Nanostrukturen durch EBID durchgef hrt.