Gå direkt till innehållet
Spacer Engineered FinFET Architectures
Spacer Engineered FinFET Architectures
Spara

Spacer Engineered FinFET Architectures

Läs i Adobe DRM-kompatibel e-boksläsareDen här e-boken är kopieringsskyddad med Adobe DRM vilket påverkar var du kan läsa den. Läs mer
This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device-circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
Undertitel
High-Performance Digital Circuit Applications
ISBN
9781351751049
Språk
Engelska
Utgivningsdatum
2017-06-26
Förlag
CRC PRESS
Tillgängliga elektroniska format
  • PDF - Adobe DRM
Läs e-boken här
  • E-boksläsare i mobil/surfplatta
  • Läsplatta
  • Dator