Gå direkt till innehållet
High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects
Spara

High-NA EUV Imaging and Mask 3D Effects

Författare:
pocket, 2025
Engelska
Undertitel
0.55 NA anamorphic optics, reflective reticle, absorber shadowing, telecentricity error, Bossung tilt, best-focus shift, k1 optimization, 2 nm/3 nm node patterning, EPE/MEEF budgeting With Python
Författare
H Wu
ISBN
9798279044078
Språk
Engelska
Vikt
794 gram
Utgivningsdatum
19.12.2025
Sidor
342